2022.07.20by 배종인 기자
램리서치가 EUV 리소그래피용 건식(드라이) 포토레지스트 개발을 위해 인테그리스, 미쓰비시 케미칼 그룹 회사인 젤레스트와 손을 맞잡았다. 양산 성공시 세정작업이 없고, 소재 사용량도 적어 기존의 안정성 문제가 대두된 습식 레지스트를 대체할 수 있을 것으로 예상된다.
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