DCT 머티리얼, 나노종합기술원 팹 시설 활용해
메모리반도체용 스핀코팅 하드마스크 소재 개발
과기부, 12인치 반도체 테스트베드 21년上 연다


DCT 머티리얼이 반도체 공공 테스트베드인 나노종합기술원과의 공동연구로 메모리반도체용 핵심소재 기술자립에 성공했다.

과학기술정보통신부는 12일, DCT 머티리얼과 나노종합기술원이 현재 수입에 의존하고 있는 ‘고(高)종횡비 구조의 메모리반도체용 스핀코팅 하드마스크 소재’의 기술자립에 성공했다고 밝혔다.

하드마스크는 반도체 미세회로를 새기는 포토마스크의 보조재료로, 식각 공정을 통해 패턴을 효과적으로 형성시킬 수 있게 만드는 공정재료다. 

최근 고집적화된 반도체 제조를 위해 종횡비(Aspcet Ration)가 높은 반도체를 제조하는 공정이 필수가 됐다. 하지만 종횡비가 클수록 식각 공정 과정에서 패턴이 무너지기 쉬운 단점이 있다.

이번에 개발된 소재는 기존 제품보다 평탄화 특성이 좋고 가격경쟁력을 확보하여 그동안 일본 등 외국에 의존했던 메모리반도체용 하드마스크 소재의 국산 대체가 가능해질 전망이다.

하드마스크 1세대 공정은 미세화 한계에 도달했으며, 2세대 공정 개발이 전 세계적으로 활발하게 진행되었지만, 국내 중소 소재 기업이 활용하는 반도체 소재 생산장비는 반도체 최종 생산기업이 보유하고 있는 장비에 비하여 노후화되어 양산 제품 검증요건을 충족시키기 어려웠다.

DCT 머티리얼은 나노종합기술원의 팹 시설을 활용하여 공동으로 기술개발을 추진함으로써, 최종 수요 대기업에 납품하기 위한 내열성, 평탄화율 등의 요구기준을 충족하는 제품개발에 성공하였다.

과기정통부 고서곤 기초원천연구정책관은 “반도체 핵심 소재·부품·장비의 기술자립을 지원하기 위하여 나노종합기술원과 같은 나노인프라 기관을 활용할 계획”이라며, “2021년 상반기 서비스를 목표로 구축 중인 12인치 반도체 테스트베드가 마무리된다면, 국내 반도체 소재·부품·장비 산업경쟁력 제고에 기여할 전망”이라고 말했다.