KLA가 아처 750 오버레이 계측 시스템과 스펙트라셰이프 11k CD 및 차원 형상 계측 시스템’을 출시했다. 아처 750 오버레이 계측 시스템은 공정 변동이 존재하는 상황에서 오버레이 오류를 측정한다. 스펙트라셰이프 11k CD 및 차원 형상 계측 시스템은 웨이퍼 형상, 구조, 소재 등을 측정하며, 생산 가동 중 공정 모니터링이 가능하다.
KLA, 아처 750 오버레이 계측 시스템 및
스펙트라셰이프 11k 형상 계측 시스템 출시
KLA가 26일, ‘아처(Archer™) 750 오버레이 계측 시스템’과 ‘스펙트라셰이프(SpectraShape™) 11k 임계 치수(Critical Dimension; CD) 및 차원 형상 계측 시스템’을 출시했다고 밝혔다.
▲아처 750(좌), 스펙트라셰이프 11k(우) (사진=KLA)
아처 750 오버레이 계측 시스템은 공정 변동이 존재하는 상황에서 오버레이 오류를 측정한다. 스펙트라셰이프 11k CD 및 차원 형상 계측 시스템은 웨이퍼 형상, 구조, 소재 등을 측정하며, 생산 가동 중 공정 모니터링이 가능하다.
KLA 계측 부서의 존 매드슨(Jon Madsen) 수석 부회장 겸 총괄은 “새로운 구조와 신규 물질의 도입으로 IC 제조업체들은 원자 단위 측정이 필요한 공정을 사용하게 됐다”라며 “KLA의 아처 750과 스펙트라셰이프 11k는 팹 고객이 필요로 하는 공정 제어 역량을 제공한다”라고 밝혔다.
두 시스템은 KLA의 ‘5D 애널라이저(Analyzer®) 첨단 데이터 분석 시스템’과 함께 사용된다.