UV 기반 공정 단일 플랫폼 결합
첨단 R&D·생산 공정 사용 가능
 

자유도와 높은 정밀도로 나노 및 마이크로 광학 부품과 기기를 대량 생산하고자 하는 사용자의 요구를 충족할 수 있는 최첨단 솔루션이 등장했다.

EV 그룹(이하 EVG)이 자동화된 SmartNIL® 나노임프린트 및 웨이퍼 레벨 광학 시스템인 EVG®7300을 출시한다.

EVG는 MEMS, 나노 기술, 반도체 제조용 웨이퍼 본딩 및 리소그래피 장비 공급사다.

EVG의 최신 솔루션인 EVG7300은 나노임프린트 리소그래피(NIL), 렌즈 몰딩 및 렌즈 스태킹(UV 본딩) 같은 UV 기반의 여러 프로세스를 단일 플랫폼에 결합한 것이 특징이다.

이 산업용 다기능 시스템은 마이크로 및 나노 패터닝은 물론 기능 레이어 적층 등을 포함하는 광범위한 신규 애플리케이션의 첨단 R&D와 생산 공정 모두에 사용될 수 있다.

이러한 애플리케이션의 사례에는 △웨이퍼 레벨 광학(WLO) △광학 센서와 프로젝터 △차량용 조명 △증강 현실(AR) 헤드셋용 웨이브가이드 △바이오 의료 장비 △메타 렌즈와 메타 표면 △광전자 기기 등이 포함된다.

EVG7300은 최대 300mm 웨이퍼까지 지원하고 고정밀 얼라인먼트, 향상된 프로세스 제어, 우수한 쓰루풋 성능을 가지고 있다.

또 다양한 자유도와 높은 정밀도로 나노 및 마이크로 광학 부품과 기기를 대량 생산하고자 하는 사용자의 요구를 충족한다.

EVG7300은 독립된 툴로서 사용하거나, 또는 EVG의 HERCULES® UV-NIL 트랙 솔루션에 하나의 모듈로 통합해 사용할 수 있다.

EVG의 HERCULES® UV-NIL 트랙 솔루션은 사용자의 특정 프로세스 요건에 따라서 세정과 레지스트 코팅 및 베이킹 같은 전처리 공정이나 후처리 공정을 추가할 수 있다.

EVG7300은 얼라인먼트 정확도(최대 300nm)도 제공한다.

이는 향상된 △얼라인먼트 스테이지 △고정밀 광학계 △멀티포인트 갭 제어 △비접촉식 갭 측정 △멀티포인트 포스 제어 등 다양한 방법의 조합 덕분이다.

또한 EVG7300은 유연성이 매우 뛰어난 플랫폼으로 세 가지 공정 모드(렌즈 몰딩, 렌즈 스태킹, SmartNIL 나노임프린트)를 지원하고 150mm부터 300mm까지 이르는 웨이퍼 크기를 지원한다.

EVG7300은 신속한 스탬프와 웨이퍼 로딩, 고속 얼라인먼트 광학계, 고전력 경화, 소형화된 툴 풋프린트로 업계에서 새롭게 떠오르는 WLO 제품의 제조 요구를 충족하는 매우 효율적인 플랫폼을 제공한다.

EVG는 현재 시스템의 주문을 받고 있으며, 본사에 위치한 NILPhotonics® 역량 센터에서 이 제품의 데모를 시연 중이다.

토마스 글린스너 EV 그룹 기술담당 디렉터는 “최신 나노임프린트 솔루션인 EVG7300은 EVG 고유의 SmartNIL 풀-필드 임프린트 기술에 렌즈 몰딩과 렌즈 스태킹을 단일 플랫폼에 결합하고 있다”며 “고객이 연구개발과 양산 공정 모두에 사용할 수 있게 하는 유연성을 제공한다”고 말했다.