나노 임프린트를 이용한 포토닉스 구조는 발광다이오드(LED)와 광전지(PV) 셀 분야의 광 추출 및 광 포획 성능을 향상시킬 수 있으며, 더불어 레이저 다이오드 분야에도 응용 될 수 있다. 이러한 포토닉스 구조는 소자의 성능을 향상시킬 수도 있다.

NIL Photonics 역량 센터는 전담 공정팀과 초기 양산 서비스를 지원할 수 있는 최첨단 클린룸을 오스트리아의 EVG 본사뿐만 아니라 북미와 일본에 있는 자회사에도 운영하고 있다. 

EV 그룹의 마커스 뷤플링거(Markus Wimplinger) 기술 개발 및 IP 이사는 "나노 임프린트 기술은 기존의 리소그래피 설계 및 제조 시간을 대폭 단축 할 수 있고, 포토닉스 구조의 모든 제품 개발이 가능하다. 또한 광학 리소그래피용 이빔(e-beam)장치 및 스텝퍼(Stepper) 시스템과 같은 종래의 기술에 비해 생산 비용의 절감을 구현 할 수 있다"고 말했다. 

예를 들어, 종래의 리소그래피 기술과 비교하여, 나노 임프린트 기술을 이용하여 전체 웨이퍼에 진정한 삼차원 나노 범위를 갖는 서브 미크론 구조 및 20nm대의 패턴까지 구현 할 수 있으며, 이는 새로운 포토닉스 응용 분야의 범위를 확장 할 수 있게 한다.

이번 NIL Photonics 역량 센터 설립을 통해, 고객에게 가장 진보된 나노 임프린트 시스템을 제공할 수 있을 뿐만 아니라, 나노 임프린트 기술로 활용하여 고객이 해상도와 운용 비용에서의 이점을 높이고, 고객의 제품 설계 및 공정 프로세스를 최적화 하기 위한 최선의 방법을 결정하는 데 있어서 제품 개발 과정에서부터 밀접하게 고객과 함께 노력하고 있다.

새로운 NIL Photonics 역량 센터는 EVG의 15년 이상의 나노 임프린트 분야의 경험과, 전 세계에 가장 많은 나노 임프린트 장비를 설치한 기술을 바탕으로 설립되었다.

EVG의 나노 임프린트 장비군은 최근에 출시한 EVG7200 UV-NIL 시스템을 포함하며, 이는 양산에 적합한 EVG의 차세대 SmartNIL™ 기술을 적용한 대면적 연성 나노 임프린트 제품이다.

EVG7200과 SmartNIL 기술은 현존하는 경쟁사 나노 임프린트에 대비해서 월등하게 짧은 공정 시간과 적은 운용 비용을 장점으로 제공한다.