EUV 생산 라인 구축해 7나노 이하 미세공정 기술 리더십 강화
“관련 업계와의 다양한 상생 협력을 통해 국가 경제에 기여할 것”

삼성전자가 경기도 화성캠퍼스에서 '삼성전자 화성 EUV 라인 기공식'을 열고 본격적으로 라인 건설에 착수했다. 19년 하반기에 완공, 시험생산을 거쳐 20년부터 본격 가동을 시작할 예정이다.

이번 신규라인에는 미세공정 한계 극복에 필수적인 EUV(Extreme Ultra Violet, 극자외선) 장비가 본격 도입되어 삼성전자가 향후 반도체 미세공정 기술 리더십을 유지하는 데 핵심 역할을 할 것으로 예상된다.

반도체 산업은 공정 미세화를 통해 집적도를 높이고 세밀한 회로를 구현하며 반도체의 성능과 전력효율을 향상시켜왔다. 그러나 최근 한 자릿 수 나노 단위까지 미세화가 진행됨에 따라 보다 세밀한 회로를 구현하기 위해서는 기존 ArF(불화아르곤) 광원보다 파장이 짧은 EUV 장비의 도입이 필요하다.

EUV 기술이 본격 상용화되면 반도체의 성능과 전력효율을 향상시킬 수 있음은 물론 회로 형성을 위한 공정수가 줄어들어, 생산성도 획기적으로 높일 수 있다.



삼성전자는 화성 EUV라인을 통해 향후 모바일/서버/네트워크/HPC 등 고성능과 저전력이 요구되는 첨단 반도체 시장 수요에 적기 대응하고, 7나노 이하 파운드리 미세공정 시장을 주도해 나갈 계획이다.

화성 EUV 라인의 초기 투자규모는 건설비용 포함 2020년까지 60억불 수준으로 삼성전자는 라인 가동 이후 시황에 따라 추가 투자를 추진할 예정이다.

지난 2000년도 삼성전자 화성캠퍼스 개발로 시작된 삼성전자와 화성시의 동반성장은 이번 EUV 신규라인 건설로 더욱 확대될 전망이며 첨단 반도체 산업의 메카로서의 입지를 확고히

삼성전자 DS 부문장 김기남 사장은 기념사를 통해 "이번 화성 EUV 신규라인 구축을 통해 화성캠퍼스는 기흥ㆍ화성ㆍ평택으로 이어지는 반도체 클러스터의 중심이 될 것"이며 "삼성전자는 산학연 및 관련 업계와의 다양한 상생 협력을 통해 국가 경제에 기여할 것"이라고 밝혔다.