평택 파운드리 구축, 5나노 이하 주력
이달 공사 착수, 2021년 하반기 가동


삼성전자가 21일, 증가하는 극자외선(Extreme Ultra Violet; EUV) 기반 제품 수요에 대응하기 위해 경기도 평택캠퍼스에 파운드리 생산 시설을 구축한다고 밝혔다.

삼성전자는 올해 2월, EUV 전용 ‘화성 V1 라인’ 가동에 이어 평택까지 파운드리 라인을 구축하며 모바일, HPC(High Performance Computing), AI 등 다양한 분야로 초미세 공정 기술 적용 범위를 확대해 나가고 있다.

이번 투자는 삼성전자가 지난해 4월 발표한 '반도체 비전 2030' 관련 후속 조치 중 하나다. 삼성전자는 이달부터 평택 파운드리 라인 공사에 착수했으며, 2021년 하반기부터 본격적으로 가동할 계획이다.

삼성전자는 2019년 ‘화성 S3 라인’에서 EUV 기반 7나노 양산을 시작한 이후, 2020년 V1 라인을 통해 초미세 공정 생산 규모를 지속 확대해 왔다. 여기에 2021년 평택 라인이 가동되면 7나노 이하 초미세 공정 기반 제품의 생산 규모가 더욱 증가할 전망이다.

또한, 올해 하반기에 5나노 제품을 화성에서 먼저 양산한 뒤, 평택 파운드리 라인에서 주력 생산할 예정이다.

한편, 글로벌 파운드리 시장은 5G, HPC, AI, 네트워크 등 신규 응용처 확산에 따라 초미세 공정 중심의 성장이 예상된다. 삼성전자는 프리미엄 모바일 칩을 필두로 하이엔드 모바일 및 신규 응용처로 첨단 EUV 공정 적용을 확대해 나간다는 전략이다.