26일에는 기자간담회 통해 최신 클리닝 솔루션 발표
 
첨단 반도체 제조기술전시회인 세미콘(SEMICON Korea 2016)가 27~29일까지 서울 삼성동 코엑스 3일 동안 개최된다. 이번 전시회는 29회째를 맞는 국내 최대 규모의 반도체 관련 전시회로 ‘Connect to the Future, Market, Technology, and People’ 주제로 개막하였다.
 
반도체 장비재료 산업을 필두로 하는 530개 이상 업체의 사상 최대 참가로 1870개 부수가 설치 되었으며 반도체 최신 공정기술, 장비, 재료, 특수가스 등을 선보인다.
 
그 중에서도 Entegris(인테그리스)는 반도체 및 기타 하이테크 산업에서 사용하는 수율 향상 소재와 솔루션을 제공하는 기업으로서 이번 전시회에 참여하게 되었다.
 
인테그리스는 중합체, 금속, 반도체, 그래파이트, 실로콘 카바이드, 세라믹 등 주요 기술 제품에 자주 사용되는 소재의 특성 및 사용에 대해 연구하며 유기와 무기 화합물의 복잡한 혼합물을 분리, 정화 및 분석하기 위한 기술을 사용하고 있어 고객들은 미세 분자 오염을 정확하게 제어하기 위해 노력하고 있다.
 
한편 인테그리스는 1월 27일, 기자간담회를 통해 첨단 반도체 제조 위한 Post-CMP 클리닝 솔루션과 10nm 이하 구리 및 텅스텐 공정에 적합한 PlanarClean^® AG 제품을 발표하였다.