2012년 2월 6일 – 큐셉 테크놀로지(Qcept Technologies, 한국 및 아시아태평양 사장 홍완철)는 오늘, NVD(non-visual defects)가 디바이스 수율과 전반적인 수익성에 미치는 영향을 반도체 업계와 공유하기 위해 올해 1분기 세계 주요 나노기술 컨퍼런스에 참가한다고 발표했다. 로직, 메모리, 아날로그 제조 애플리케이션 부문에서 증가하고 있는 큐셉의 재주문율과 사용 사례를 통해 알 수 있듯이 점점 더 많은 반도체 제조업체들과 장비 공급업체들이 NVD 수율 문제를 해결하고자 큐셉의 ChemetriQ® NVD 검사 솔루션을 선택하고 있다.

큐셉 테크놀로지의 로버트 뉴콤(Robert Newcomb) 부사장은 “반도체 제조에 있어 NVD 검출은, 첨단 IC 제조업체들의 증가하는 수율 저하 요인을 없애기 위해서뿐만 아니라 화학품 사용을 줄이고, 주기를 단축시키며, 공정장비의 처리량과 효율성을 늘려 팹의 공정을 개선하고 최적화하는데 점점 더 중요해지고 있다”며 “큐셉은 반도체 업계가 NVD 검사를 수율 관리 전략에 적용하는데 따른 이점에 대한 이해를 돕기 위해 그 동안 고객 및 협력사와의 협업으로 거둔 최신 성과를 컨퍼런스를 통해 알리고자 한다”고 말했다.

큐셉은 2012년 1분기 동안 다음의 주요 컨퍼런스에 참여한다.

세미콘 코리아(SEMICON Korea) 계측 검사 포럼 / 2012년 2월 7일 서울 COEX
세미콘 코리아 계측 검사 포럼에서 큐셉 테크놀로지의 공정 및 수율 기술 선임인 조성진(Sungjin, Jason Cho) 박사는 고급 공정 제어와 수율 엔지니어링 실현을 위해 유발된 잔류전압(process-induced charging)과 서브모노레이어(sub-monolayer) 유기 및 금속 잔여물과 같은 수율을 제한하는 NVD 관련 검사 솔루션에 대해 발표할 예정이다. 조박사의 발표는 2월 7일 오후 4시에 시작되는 세션 2에서 진행될 예정이다.

19회 한국반도체학술대회(Korean Conference on Semiconductors) / 2012년 2월 15-17일 서울 고려대학교
제 19회 한국반도체학술대회(KCS)에서 큐셉의 조성진 박사는 최근 부상하고 있는 NVD의 개괄적 내용과 더불어 반도체 팹들의 수율 증대를 위한 NVD 검사 활용 사례들을 소개할 예정이다. 조박사의 발표는 2월 17일 오후 3시 30분에 진행될 예정이다.

세마텍 표면처리 및 세정 컨퍼런스(SEMATECH Surface Preparation and Cleaning Conference) / 2012년 3월 19-21일 텍사스 오스틴
세마텍SPCC 컨퍼런스에서 큐셉과 삼성전자는 ADI(After Develop Inspection) 단계에서 발생하여 ACI ACI(After Clean Inspection) 과정에서 물리적 점식 결함(pitting defects)을 초래하는 전하 NVD의 영향에 대한 공동논문을 발표할 예정이다. 전하 NVD는 어드밴스드 노드 게이트 산화 모듈에서 물리적 결함과 최종적으로 영향을 받은 디바이스의 수율을 예측할 수 있는 선행지표 역할을 한다.

*사진 설명: "큐셉 ChemetriQ 장비를 통한 결함 부분이 표시된 고해상도 전하 맵”
큰 이미지는 큐셉 장비를 통해 제공된 웨이퍼 맵으로, 반도체 웨이퍼 공정 동안 웨이퍼 중간 부분에 전하(전압)가 쌓인 것을 나타내고 있다. 전하는 NVD의 한 유형으로, 전하 NVD는 광검사 장비로는 검출이 불가하며, 큐셉 장비로만 검출이 가능하다. 사진 속의 작은 이미지는 웨이퍼 상에서 실제 수율 손실이 어디에 발생했는지를 나타낸 것이다. 큐셉 장비가 전하가 축적된 곳을 잡아낸 부분과 같은
부분이다.