첨단 반도체 제조에 사용되는 스토캐스틱스(stochastics) 측정 및 제어 솔루션 분야 선도 기업인 프랙틸리아(Fractilia)가 해로운 솔루션을 통해 EUV 수율 문제 해결에 나선다.

프랙틸리아는 반도체 팹에 수십억 달러 규모의 손해를 일으키는 EUV 수율 문제를 관리할 수 있게 해주는 FAME™(Fractilia Automated Measurement Environment) 제품의 최신 버전을 출시한다고 최근 밝혔다.

FAME 제품 라인은 첨단 노드에서 패터닝 오류를 일으키는 주된 요인인 스토캐스틱스를 고도로 정확하고 정밀하게 측정한다.

프랙틸리아의 FAME 제품을 활용하면 의사결정을 더 신속하게 하고 첨단 패터닝 공정을 더 잘 제어할 수 있어 디바이스 수율과 패터닝 생산성을 높일 수 있다.

새로운 버전의 FAME은 프랙틸리아의 검증된 3세대 FILM™(Fractilia Inverse Linescan Model) 플랫폼을 기반으로 하며, 세계 5대 칩 제조사 중 4개 회사가 이미 이 기술을 사용하고 있다.

테크인사이츠(TechInsights)의 댄 허치슨(G. Dan Hutcheson) 부회장은 “반도체 제조 동향이 점점 더 EUV 시대로 전환되면서 스토캐스틱이 주요 수율 문제로 떠오르고 있다”며 “프랙틸리아의 설립자인 에드 샤리에(Ed Charrier)와 크리스 맥(Chris Mack)은 일찍부터 스토캐스틱에 대해 경고해 왔으며, 프랙틸리아가 스토캐스틱 제어 솔루션으로 이 문제를 해결하는 데 도움을 줄 수 있는 좋은 입지를 갖췄다. 이들은 20년 전 FINLE 테크놀로지스(FINLE Technologies)에서 PROLITH 리소그래피 모델링 및 데이터 분석 소프트웨어를 개발하여 혁신 기술을 성공적으로 상용화한 입증된 실적을 보유하고 있으며, 이 기술은 당시로서 혁신적이었을 뿐만 아니라 오늘날까지도 반도체 팹의 공정 제어 분야에서 영향력을 미치고 있다. 게다가 FILM™은 EUV 기술이 실험실에서 벗어나 팹으로 입성하는 데 있어서 매우 유용한 도구임이 입증됐다”고 말했다.

스토캐스틱스(stochastics)는 임의적이면서 반복적이지 않은 패터닝 오류를 일컫는데, EUV 공정에서 총 패터닝 오류의 50% 이상을 차지한다.

따라서 반도체 팹에서는 스토캐스틱스를 제어하기 위해 이를 정확히 측정할 필요가 있다. 기존 기법으로는 스토캐스틱스를 정확하고 정밀하게 측정하기가 어려운데, 첨단 공정에서는 스토캐스틱스가 무시할 수 없는 문제이다. 첨단 193nm 광 리소그래피에서는 이미 문제가 되고 있으며, 특히 이중 및 사중 패터닝의 경우 더욱 그렇다. EUV 공정에서 스토캐스틱스는 심각한 수율 문제로 이어지고 비용을 증가시킨다.

프랙틸리아의 크리스 맥(Chris Mack) CTO는 “스토캐스틱스 문제 때문에 제조 팹들은 수율과 생산성 사이에서 절충을 해야만 한다. 수율 저하를 막으려 노출량을 높이면 EUV 스캐너의 생산성이 떨어지고, 이것을 메우기 위해서 추가적인 EUV 스캐너를 사용해야 할 수 있다. 스토캐스틱스를 제어하면 공정 장비의 생산성을 높이면서 수율도 개선할 수 있다. 프랙틸리아의 FAME 제품을 사용하면 스토캐스틱스를 고도로 정확하고 정밀하게 측정 및 제어할 수 있어, 결과적으로 고객들에게 새로운 옵션이나 솔루션을 제공할 수 있다. 우리 고객들이 프랙틸리아 제품을 사용해서 측정하는 SEM 이미지 수가 빠르게 증가하고 있으며, 프랙틸리아는 스토캐스틱스 측정에 있어서 사실 상의 업계 표준(de facto)으로 자리잡고 있다”고 말했다.