프랙틸리아가 대량제조 팹에서 단 몇 분만에 잠재적인 공정 문제를 파악하도록 지원하며, EUV 패턴 제어 및 수율 향상을 위한 지원에 나선다.

프랙틸리아는 스토캐스틱(stochastic) 기반 분석과 제어를 이끌어가는 차세대 반도체 산업 주자로서 자사의 FAME™(Fractilia Automated Measurement Environment, 프랙틸리아 자동화 측정 환경) 포트폴리오에 최신 제품인 FAME 300을 추가한다고 22일 밝혔다.

대량 제조(high-volume manufacturing, 이하 HVM) 팹 환경에서의 사용을 위해 특별히 설계된 FAME 300은 첨단 노드 공정에서 패터닝 오류의 주된 원인인 스토캐스틱 효과를 실시간으로 측정, 감지 및 모니터링 할 수 있다.

FAME 300을 사용할 경우, 팹에서 스토캐스틱 변이로 인해 발생하는 잠재적 공정 문제를 단 몇 분 만에 파악할 수 있어, 신속한 수정 조치를 통해 자사의 패터닝 공정에 대한 제어를 개선하고 수율을 최적화할 수 있다.

FAME 300은 프랙틸리아의 FILM™(Fractilia Inverse Linescan Model) 특허 기술을 활용한다.

이 기술은 CD(Critical Dimension; 임계 선폭) 측정뿐 아니라 거칠기를 포함한 다양한 스토캐스틱 효과를 고도로 정확하고 정밀하게 측정할 수 있는 유일한 팹 솔루션이다.

프랙틸리아의 제품은 반도체 제조사, 장비 회사 및 반도체 원재료 공급사의 연구 개발 및 공정 개발 환경에서 이미 검증되었다. 프랙틸리아 제품을 사용하여 수행된 모든 측정은 연구 개발 단계에서 HVM 단계로 이전될 수 있으며 완전 자동화가 가능하다.

프랙틸리아의 크리스 맥(Chris Mack) CTO는 “반도체 업계가 지속적인 미세화를 통해 무어의 법칙을 계속 유지해 나가고자 함에 따라 업계 선도적인 팹들은 갈수록 악화할 뿐인 스토캐스틱 변동이 크게 늘어나는 것을 경험하고 있다. 신규 팹 공정이 우수한 수율을 나타낼 수 있도록 제어하기 위해서는 스토캐스틱에 대한 정확한 측정이 필요하다”며 “프랙틸리아는 FILM 측정 엔진을 높은 처리량과 신뢰성, 낮은 대기 시간이 특징인 새로운 FAME 300 플랫폼에 통합함으로써 스토캐스틱 분석 기능을 팹 HVM 환경에 도입했다. 이제 프랙틸리아의 고객은 자사의 HVM 프로세스를 더 잘 제어하고, 제품의 스토캐스틱 문제를 해결하는 것과 관련하여 수 개월을 절약할 수 있을 것”이라고 말했다.