반도체 및 첨단 웨이퍼 레벨 패키징(WLP) 애플리케이션을 위한 웨이퍼 처리 솔루션 선도 기업인 ACM 리서치(ACM Research)가 새로운 양면 베벨 에칭 시스템을 통해 구리 관련 애플리케이션의 공정 효율성과 신뢰성을 향상시켜 대형 패널 상에서 고정밀 특성을 지원한다.

ACM은 팬아웃 패널 레벨 패키징(FOPLP) 애플리케이션을 위한 Ultra C bev-p 패널 베벨 에칭 장비를 출시한다고 11일 발표했다.

새로운 장비는 구리 관련 공정의 베벨 에칭 및 세정용으로 특별히 설계된 것으로, 단일 시스템 내에서 패널 베벨 에칭의 앞면과 뒷면을 모두 처리할 수 있어 공정 효율성과 제품 신뢰성을 향상시킨다.

Ultra C bev-p 장비는 FOPLP 공정의 핵심 요소이며, 베벨 에칭 및 구리 잔류물 제거를 위해 특별히 설계된 습식 에칭 기술을 활용한다. 이 공정은 전기적 단락을 방지하고, 오염 위험을 최소화하며, 후속 처리 단계의 무결성을 유지하여 디바이스의 장기적인 신뢰성을 보장하는 데 있어서 매우 중요하다. 이 장비의 효율성의 핵심은 정사각형 패널 기판의 고유한 문제를 해결하는 ACM의 특허 기술이다.

기존의 원형 웨이퍼와 달리, ACM의 혁신적인 설계는 휘어진 패널에서도 베벨 영역에 국한된 정밀한 베벨 제거 공정을 보장한다. 이러한 기술적 진보는 에칭 공정의 무결성을 유지하고 첨단 반도체 기술이 요구하는 높은 성능과 신뢰성을 달성하는 데 필수적이다.

Ultra C bev-p 장비의 주요 특징을 살펴보면 패널 기판용으로 특별히 설계돼 유기 재료, 유리 재료 및 본딩 패널과의 호환성을 제공한다. 패널의 앞면과 뒷면을 모두 효율적으로 처리하며, 0.5 밀리미터에서 3 밀리미터 두께의 510 x 515 밀리미터 및 600 x 600 밀리미터 패널을 처리할 수 있다. 이 장비는 최대 10 밀리미터까지의 패널 휨을 처리할 수 있어 최적의 공정 조건을 보장한다.

첨단 패널 처리를 위해 안전하고 정밀한 패널 취급 및 이송을 위한 단일 로봇이 장착되어 있다.

효율적인 구리 제거를 위해 탈이온수(DI), 황산, 과산화수소의 혼합물인 희석된 황산 및 과산화수소(DSP)를 사용하여 구리를 효과적으로 제거한다. 또한 헹굼용 탈이온수와 최종 건조용 N2를 포함하고 있어 표면을 깨끗하고 건조하게 유지한다.

최대 6개의 처리 챔버를 작동할 수 있는 Ultra C bev-p는 시간당 40패널(PPH)을 처리할 수 있어 대량 생산에 매우 효율적이다.

이 시스템은 ±0.2 밀리미터의 베벨 제어 정확도와 0∼20 밀리미터의 독보적인 제어 범위를 제공한다. 또한 평균 무고장 시간(MTBF) 500시간, 가동 시간 95%로 설계되어 탁월한 신뢰성과 일관된 성능, 운영 효율성을 보장한다.