효성화학이 삼불화질소(NF3) 수요 증가에 2,000톤 증설에 나선다.

효성화학은 8일 공시를 통해 NF3 증설을 단행한다고 밝혔다. 투자금액은 1,198억6,100만원이며, 이는 자기자본대비 29.79%에 해당하는 금액이다.

증설 예정 장소는 옥산공장이며, 증설량은 2,000톤으로 증설완료시 기존의 6,000톤과 합해 총 8,000톤 규모의 생산량을 확보하게 된다.

이번 증설과 관련해 효성화학 관계자는 NF3 수요 증가에 따른 증설이라고 밝혔다.

한편 NF3는 반도체 생산 공정에서 화학적기상증착법(CVD) 챔버 내에서 웨이퍼에 박막을 입힌 후 남아있는 이산화규소(SiO2)나 질화규소(SiN4)와 같은 불순물과 반응해 사플루오린화규소(SiF4)로 내부를 세척하는데 사용된다.

국내에서는 효성화학을 비롯해 SK머티리얼즈, 버슘머트리얼즈 등이 생산하고 있으며, 최근 반도체 업체들의 공격적인 증설로 인해 수요가 지속 증가하고 있는 추세다.