▲반도체 초강대국 달성전략 기대효과
340조 투자·15만 인재양성 본격화
2030년 시스템반도체 점유율 10%
소부장, 시장선도형 자립화율 50%
산학연관이 우리나라 반도체 초강대국 달성을 위해 340조를 투자하는 등 민관의 모든 역량을 결집한다.
정부는 21일 관계부처 합동으로 ‘반도체 초강대국 달성전략’을 발표했다.
이에 따르면 정부는 기업에 대한 인프라 지원 및 신속 인허가, 기업 투자 세제지원 확대, 노동/안전 등 규제 완화로 투자를 촉진해 2026년까지 340조원의 기술개발 및 설비투자에 나선다.
또한 사람에 대해서는 대학/대학권을 통한 인력양성, 산학협력 4대 人프라 구축, 우수인재 유치 및 관리 강화로 2031년까지 반도체 전문인력 15만명 이상의 인재양성에 나설 계획이다.
기술과 관련해서는 3대 차세대반도체 기술개발, 유망 팹리스 성장 지원, 시스템반도체 생태계 역량강화 등으로 2030년까지 시스템반도체 점유율 10%를 달성하는 등 기술 경쟁력을 확보할 계획이다.
소부장과 관련해서는 시장선도형 기술개발로 전환하고, 소부장기업의 성장 기지를 구축하며, 유망 기술사업화 지원 확대를 통해 2030년까지 소부장 자립화율 50%를 달성한다는 목표다.
■ 인프라 지원 및 규제/인허가 특례로 기업 투자 촉진
우선 기업 투자 지원과 관련해서는 국가 핵심 반도체 산업단지에 대한 전력, 용수 등 필수 인프라 구축비용을 국비로 지원하고, 용적률 특례를 적용해 기존 350%에서 최대 1.4배 상향된 490%를 적용하고, 한정된 부지에서 설비 신·증설 허용량을 확대한다.
인허가와 관련해서도 중대·명백한 사유가 없으면 산단 조성 관련 인허가 신속처리를 의무화한다.
특히 세액 공제를 확대해 대기업 세액공제율을 중견기업과 단일화해 현행 6∼10%에서 8∼12%로 2% 인상을 추진한다.
또한 법정 근로시간 예외를 인정하고, 화학물질·안전 규제도 완화한다.
특히 첨단 제조공정의 필수장비가 국내에 신속하게 설치될 수 있도록 고압가스안전관리법상 규제 완화도 추진한다.
여기에 대기업이 인수하는 반도체 중소기업의 대기업 계열사 편입이 7년간 유예될 수 있도록 유예 허용 대상도 확대해 연구개발비중 3% 이상 중소기업도 유예가 허용돼 국내 70% 이상의 반도체 중소기업에 적용이 가능할 것으로 예상된다.
■ 대학·대학원 혁신 반도체 인력양성 확대
반도체 인력과 관련해서는 규제를 완화해 ‘교원확보율’만 충족시 정원 증권을 허용하고, 국립대의 경우 전임교원 기준을 70% 이상으로 완화한다.
또한 학사학위과정의 100% 온라인 운영이 허용되고, 반도체 특성화대학·대학원을 신규 지정, 인건비·기자재 등을 지원한다.
비전공 학생의 반도체 산업 유입을 위해 학부생이 2년간 복수전공, 부전공 과정으로 이수 가능한 반도체 브레인 트렉이 운영된다. 2022년부터 30개교 운영이 시작될 예정이다.
업계 주도의 인력양성을 위해 반도체 협회가 설립·교육과정을 운영하는 반도체 아카데미도 설립되며, 정부와 기업이 10년간 3,500억원 규모의 공동투자 R&D로 석박사 인재 양성에 나설 방침이다.
한국형 IMEC로 설립해 기업 기증 장비로 양산현장급 교육환경을 제공하고, 소부장 계약학과도 10개교 추진하기로 했다.
■ 전력반도체·차량용반도체·AI 반도체 집중개발
전력반도체 기술고도화를 위해 4,500억원 규모의 예타를 추진해 회로설계, 공정, 소재 등 주요 분야별 18대 핵심기술 개발에 나선다.
또한 차량용 반도체 기술개발을 위해 5,000억원 규모의 예타를 추진해 프로세서, 센서, 전력반도체, 믹스드 시스널칩 등 4대분야 고부가 16대 품목 개발에 나선다.
AI반도체에는 1조2,500억원이 지원 추진돼 데이터센터와 미래차, 바이오, 가전, 기계·로봇 등 국내 주력산업에 적용해 실증 성능 검증이 추진된다.
이외에도 잠재력을 보유한 유망 팹리스 30사를 스타팹리스로 선정해 성장을 지원하며, 첨단 후공정 특화 대규모 R&D 예타사업 신규기획도 착수한다.
■ 소부장, 시장 선도형 기술개발로 전환
소부장 R&D 중 미래 선점을 위한 선도형 기술개발 비중을 2023년 20% 이상으로 확대하고, 첨단패키징, EUV용 포토마스크 기술 등 소부장 핵심전략기술을 대폭확대한다.
제3판교에 반도체 소부장, 팹리스 기업의 R&D 시설투자를 우선 유치해 반도체 특화 R&D 클러스터를 구축하고, 제2판교 내 글로벌비즈센터에 반도체 기업 전용공간을 조성한다.
또한 반도체 소부장 기업, M&A 등에 집중 투자할 3,000억원 규모의 반도체 생태계 펀드를 민관합동으로 조성하고, 소부장 핵심전략 품목의 실증, 양산 설비투자에 이차보전 검토를 추진한다.
▲반도체 산학협력 4대 인프라 구축 협약식 후 참석자들이 기념촬영을 하고 있다.
■ 반도체 산학협력 4대 인프라 MOU 체결
이와 관련해 산업통상자원부, 삼성전자, SK하이닉스, 동진쎄미켐, PSK, FTS, 실리콘마이터스, 반도체협회는 산학협력 인력양성 생태계 조성을 위해 반도체 산학협력 4대 인프라에 관한 MOU를 체결했다.
이창양 산업부 장관은 “산업현장이 계속 진화하듯 이번 정책발표가반도체 산업 발전전략의 완결은 결코 아니며, 앞으로 업계와 긴밀히 소통하고 관련 대책을 지속 보완함으로써 ‘반도체 초강대국 달성전략’을 실천해 나가겠다”며 “특히 배터리, 디스플레이, 미래 모빌리티, 로봇, 바이오 등 반도체 미래수요를 견인할 유망 신산업을 ‘반도체 plus 산업’으로 묶고, 반도체 산업과 선순환적 동반 성장을 위해 반도체 plus 산업의 경쟁력 강화방안을 순차적으로 수립해 나갈 것”이라고 밝혔다.